半导体进入7nm时代后,荷兰ASML(阿斯麦)的EUV光刻机成了不可或缺的香饽饽,当然,从进度上来看,台积电、三星进度居前。
日前与媒体交流时,ASML技术开发副总裁Tony Yen确认,虽然EUV光刻机的主要客户中有Intel,但并没有见到该公司在7nm上进行大批量生产。
他表示,目前最前沿的量产技术是5nm节点,台积电和三星均已上马建筑施工查询。
但Tony Yen紧接着指出,Intel有着更高的设计规范,因此Intel的7nm就像台积电和三星的5nm。
实际上一直以来,Intel都强调,关于节点制程的定义,台积电和三星相对宽泛,Intel则更为严格,也就是密度、宽度等指标的要求上。
当然,对自己高标准是好事,但进度拖沓也是不争的事实,按照Intel的最新说法,7nm要到2023年才能量产。不出意外的话,彼时的台积电和三星都已经量产3nm一年了。
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