中企正式官宣

芯片制造是一项非常复杂的工作，每一个环节至少需要几十道步骤，其中涉及的设备，材料和技术等等，都不能出现一点纰漏。芯片制造所用的光刻机，涂抹芯片所用的光刻胶以及使用设备制造芯片的制程技术等等，都要确保万无一失。

到底哪一个最重要，答案是缺一不可。但是要想实现芯片生产，还需一步步解决各项制造上的问题。比如制造芯片初步环节时的光刻胶。

光刻胶是一种材料，一颗芯片需要嵌入很多层的集成电路，架构其一层层的电路。可是晶体管集成电路是容易受损的，为了保护芯片性能，会在表面涂抹光刻胶。

主要的作用在于保护，不同光刻胶对应不同工业集成电路芯片，越是复杂的高端芯片，则需要用上质量越好的光刻胶。一直以来，光刻胶产业都被日本掌握在手中，不过这一次中企巨头正式官宣好消息，事关光刻胶。

在晶瑞股份的2020年业绩说明会上，晶瑞股份董事长吴天舒表示道，公司已经对KrF（248nm深紫外）光刻胶完成了中试，分辨率达到了0.25~0.13μm的技术要求，并且建立起了中试示范线。

中企巨头晶瑞股份官宣了旗下光刻胶产品的进展，这对国产光刻胶产业来说，是有重大意义的。另外晶瑞股份I/G线光刻胶产品已经能够用于8英寸车规级芯片的制造工作。

芯片制造难题，或得到解决？

晶瑞股份是国内领先的光刻胶巨头，有深厚的经验。值得一提的是，在高端光刻胶领域的探索方面，晶瑞股份也专门购得了一台光刻机。今年1月份中下旬晶瑞股份发布公告称，经过多方协作，成功购得ASML XT 1900 Gi 型光刻机菲律宾旅游签。

这台光刻机最高可用于分辨率达28nm的高端光刻胶，一旦成功研制出28nm光刻胶，将意味着国产光刻胶产业正在崛起。未来我国掌握先机的高端芯片制造工艺，在光刻胶重要材料上的问题，就能得到供应。

如此一来，芯片制造所面临的材料难题，或将得到解决。毕竟光刻胶也是芯片制造的重要步骤。而光刻机来了，想必进入到晶瑞股份的生产线也有一段日子。

不过需要注意的是，晶瑞股份购买的这台光刻机是二手的，而且并非用于生产芯片，而是用作研究目的。旨在通过该光刻机实现对高端光刻胶产品的研发，技术攻克。

国产光刻胶的崛起

芯片制造所需的材料问题，我们已经有了相应的布局和进步。在国产光刻胶领域，不只是晶瑞股份，包括南大光电的ArF光刻机也通过了客户验证，达到良率要求的水准。

而且除了晶瑞股份购得光刻机之外，上海新阳购买的ASML-1400光刻机也完成交付，对193nmArF干法光刻胶的研发有重要意义。

晶瑞股份、南大光电、上海新阳等国内领先的光刻胶企业巨头们，都有了不错的国产光刻胶制造水准。后续需要做的就是在现有的基础上做得更好，把国产光刻胶逐步提升到高端水准。

国产光刻胶的崛起已经开始了，等高端光刻胶研发到位，芯片制造剩余的步骤环节，也必将一一攻破。