又一芯片设备突破

相比于芯片设计，芯片制造的难度和投入会更大，对一般的企业来说，没有几百亿，上千亿的投入根本做不起来。甚至一台芯片制造设备的价格就需要上亿美元，比如EUV光刻机起步价基本上是在1.2亿美元左右。

而芯片设计花费几亿，几十亿基本上就能有一定的成果。正因为芯片制造产业投入大，所以国内形成了两极分化的局面。有数十家芯片设计巨头，但芯片制造领先的只有一两家。

要想完成芯片制造，要解决非常多的问题，其中设备是不可或缺的。没有设备等于工人没有工具，程序员没有电脑，司机没有汽车。而芯片制造设备种类繁多，包含光刻机、刻蚀机、清洗机、离子注入机等等菲律宾旅游签。

每一类设备都十分重要，但是中国在离子注入机这一关键设备上突破了，实现全系国产化。做到了大束流、中束流、高能、特种应用等全谱系的国产化。并且工艺可达28nm，为芯片制造产业链补足重要环节。

做到这一点的是中国电科旗下附属装备子集团，在其研发下，一系列的“卡脖子”技术都将逐一攻克。最重要的是全系国产化让中国芯片制造在各类制程都能有自主话语权。

离子注入机国产化的意义

离子注入机主要用于半导体材料，集成电路的离子注入，利用离子注入机加速获得几百千电子伏能量的离子束流。芯片用硅制程，其本身的特性需要通过加工的方式才能获得导电性能。

在集成电路和晶体管之间获得导电性能，才可以正常运行。而离子注入机简单来说就是帮助其获得这一特性的设备。过程中产生的光伏能量也会影响最终离子注入的效果。

而且每一类集成电路所使用的离子注入机谱系是不同的，又会因纳米制程的缘故，决定能否顺利离子注入。

现在中国电科突破了离子注入机全系国产化，意义在于各类芯片制造产业都能进行加持。而且28nm属于成熟工艺的主流制程，足以满足市场上大部分设备的生产需求。将来中国要实现芯片自给率的提升，就离不开国产芯片制造设备上的突破。

从长远来看，中国电科离子注入机全谱系产品实现国产化，有助于中国芯片制造业不断提高自产水平。我国已经定下了在2025年实现70%芯片自给率的目标，要如何完成这一目标呢？

答案显而易见，需要更多像离子注入机这样的芯片制造设备，实现国产化突破。

高端芯片制造设备的布局

中国电科在国内离子注入机市场上，是有足够分量的。各类谱系的离子注入机生产制造都属于国内上流水准。这次全谱系国产化，让中国芯片制造话语权更大了。美国也没料到会这么快，从去年开始实行芯片规则以来，一连串中国芯片突破的好消息接踵而至。

美国没想到的是，限制得越多，突破的就越快。而中国在高端芯片制造设备的布局已经在各类关键设备上展开行动。除了中国电科的离子注入机之外，还有上海微电子的光刻机。

在国产光刻机的背后，还有华卓精科提供双工件台，北京国望提供物镜系统。刻蚀机也有中微半导体成为头部玩家。这些只是一小部分，再加上清华大学也在EUV光源上有了进展。

在国人的不断努力下，中国芯片制造业一定能持续向前，披荆斩棘。